日本知名美術(shù)大學
2024-05-05 11:07:38 來源：中國教育在線
現(xiàn)在留學的學生越來越多，留學可以開闊眼界，也能學習不一樣的教育體制，而且世界名校眾多，教育水平也一流。下面小編就來和大家說說“日本知名美術(shù)大學（日本知名美術(shù)大學申請要求介紹）”這個問題
日本知名美術(shù)大學申請條件
一、武藏野美術(shù)大學
武藏野美術(shù)大學建校于1962年，前身是始于1929年的帝國美術(shù)學校。武藏野美術(shù)大學是一所美術(shù)造型藝術(shù)教育的綜合性大學，共有包含美術(shù)和設(shè)計的11個學科配置。2012年（平成24年）武藏野美術(shù)大學成功納入日本全球人材育成推進事業(yè)計劃，是日本學科領(lǐng)域分類最多并且教育規(guī)模最大的美術(shù)專門高等學府，主要校區(qū)分布在鷹之臺和市谷兩地，并擁有遠程教育項目，并且是日本規(guī)模最大的藝術(shù)大學。
學部申請條件：
1.沒有日本國籍的人和沒有取得日本永久居留權(quán)的人（包括特別永住者）；
2.到2023年4月1日將年滿 18 歲的人；
3.入學時具有“留學”在留資格的人；
4.根據(jù)該國正規(guī)教育制度在國外完成12年課程，并取得進入該國大學或同等學歷者；
5.日本留學考試“日語（閱讀理解、聽力閱讀理解）”取得200分以上，或日語能力N2級合格者測試。
修士申請條件：
1.在國外完成16年學校教育，取得相當于學士學位者；
2.日本留學考試（EJU）的“日語（閱讀理解、聽力理解、聽力閱讀理解）”中獲得200分以上的成績，或必須通過N2或更高級別的日語能力測試（JLPT）。
二、多摩美術(shù)大學
多摩美術(shù)大學是于1935年建立于日本東京都世田谷區(qū)上野毛，1953年開設(shè)大學教育的美術(shù)大學。從帝國美術(shù)學校分裂，建校名稱多摩帝國美術(shù)學校，學校以“自由與意力”作為教育理念，實踐美術(shù)和設(shè)計的創(chuàng)作研究、不斷探求美術(shù)教育的應有價值和方式。主要校區(qū)分布在八王子和上野毛兩地，現(xiàn)為日本規(guī)模最大的美術(shù)大學。
學部申請條件：
1.已在日本境外完成中等教育和學校教育12年或以上，或預計在2023年3月31日之前完成，或相當于此。申請人還必須滿足本國的大學入學要求。
2.滿足以下要求之一：
(1)參加了2024年11月、2024年6月、2024年11月、2024年6月日本學生支援機構(gòu)運營的“日本留學考試（EJU）”，科目為“日語作為外語”，閱讀理解/聽力和聽力-閱讀理解的綜合得分為220分或更高。
(2)2024年12月、2024年7月、2024年12月、2024年7月參加了財團法人日本國際交流財團主辦的“日本語能力考試（JLPT）”，并通過了N2或N1級。
修士申請條件：
1.已完成16年的學校教育課程并在日本以外的國家/地區(qū)獲得學士學位；
2.具有外國公民身份的申請人還必須滿足以下要求之一：
(1)2024年11月、2024年6月、2024年11月、2024年6月參加了日本學生支援機構(gòu)舉辦的“日本留學考試（EJU）”，“日語作為外語”科目取得成績者閱讀理解/聽力和聽力-閱讀理解的綜合分數(shù)為260分或更高，寫作分數(shù)為35分或更高。
(2)2024年12月、2024年7月、2024年12月、2024年7月參加了財團法人財團法人日本教育交流協(xié)會主辦的“日語能力考試（JLPT）”，并通過N1級。
三、東京造形大學
東京造形大學是于1966年設(shè)立的日本私立大學，由日本著名設(shè)計大師桑澤洋子所創(chuàng)立。是日本第一所以“造形”命名專攻設(shè)計與美術(shù)的小規(guī)模藝術(shù)類大學。學校以美術(shù)和設(shè)計的綜合性理念為重心，以培養(yǎng)具有創(chuàng)造性的高端藝術(shù)人材為目標，培養(yǎng)出了大量藝術(shù)精英。是日本著名美術(shù)與設(shè)計教育的高等學府。
學部申請條件：
在本校入學時（2023年4月1日）年滿18周歲，并符合下列全部條件者：
1.不具有日本國籍以及未獲得日本國永久居留許可（包括特別永久居留者）的人員；
2.在外國完成正規(guī)教育制度下的12年課程或2023年3月31日前完成的期望者，在該國有大學入學資格或與此相符合者；
3.申請時日本語能力測試（JLPT）N2以上合格者，或日本留學測試（EJU）“日本語（僅限閱讀、聽解、聽讀解，不包括記述）”獲得240分以上者。
修士申請條件：
1.滿足16年教育并且已經(jīng)取得學位證書；
2.JLPT N2以上合格，EJU280分以上，記述35分以上。
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